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第一三八六章 光刻机的现状(下)

第一三八六章 光刻机的现状(下) (第1/2页)

“董事长,要是Nikon在我们之前,率先攻克157nm激光器技术,率先研发成功65nm制程工艺的光刻机,我们如何应对?”
  
  CTO汤普森知道EUV光刻机不是短时间内能研制成功的,也主张两条腿走路,GCA研究院如今也在研发157nm激光器,由于GCA一直以研发EUV为主,157nm激光器的技术远不如Nikon和SVG,投资10美元,要是能够收购SVG,拿到SVG独有的157nm激光器需要配置的反折射镜头技术,不能反超Nikon,也能同Nikon并肩齐驱。
  
  孙董事长不同意公司收购SVG,汤普森也不理解。
  
  EUVLLC联盟规划投资2亿美元,集合200多位顶尖科学家,目的就是从理论上验证了EUV光刻机的可行性?理论验证完成后,EUVLLC联盟将宣布解散,将研制EUV和EUV光刻机的难题交给GCA,据同行在一起估算,研发投资起码要花50亿美元!
  
  汤普森领导EUVLLC联盟的200多位科学家,研究了2年多,还没有验证清楚EUV光刻机的可行性?
  
  “汤普森院长的担忧也有道理,除了加强研发力量继续研究157nm激光器技术外,艾德里安先生可以同Papken先生接触一下,看对方是否愿意出售反折射镜头技术的专利?价格可以商量”
  
  Papken是SVG的首席执行官。
  
  孙健本来不想在董事会上谈论收购SVG的事情,但汤普森的提问代表GCA高层的疑惑,不得不正面回应。
  
  当时因为BSEC研究院光源研究所还没有研发成功193nm浸没式光刻机技术,孙健不反对GCA研究院两条腿走路,但BSEC研究院光源研究所去年已经研发成功193nm浸没式光刻机技术,GCA再继续投入巨资研发157nm激光器就是多此一举,但也不能打击众人的积极性。
  
  “好的,董事长!”
  
  艾德里安心里好奇,为什么孙董事长不同意收购SVG?似乎对研发157nm激光器技术不是特别支持,难道还有更好的方法?明白Papken不会低价出售反折射镜头技术的专利。
  
  “汤普森院长,EUVLLC联盟一旦从理论上验证了EUV光刻机的可行性后,要是GCA继续研发EUV光刻机,理论上大概需要多少投资”
  
  孙健转移话题,也是告诉公司高层,GCA账上的现金流不是多了,而是远远不够。
  
  前世,EUVLLC联盟的几百位顶尖科学家在一起联合研发了6年多,发表了几百篇科研论文,从理论上验证了EUV光刻机是可行的,目的达到,解散了EUVLLC联盟,接下来的实际问题都抛给了ASML,面对如此高深的技术,ASML是选择做还是不做?
  
  ASML一家之力不可能完成研制成功EUV光刻机这项宏伟工程,不得不拿出公司近三成的股权,向下游光刻机重要客户Intel、台积电和三星电子融资了60多亿美元!
  
  据说为了研发EUV光刻机,ASML前前后后在将近20年时间内投入上百亿美元的研发费用。
  
  GCA和Nikon占据光刻机的高端市场,技术水平不分仲伯,但由于高端光刻机用户Intel、IBM、IT、ADM、HP同GCA既是Sematech会员,又是GCA的股东,采用一致对外的策略,GCA的高端光刻机是首选,GCA如今占据全球高端市场份额的近7成,NiKon占3成多。
  
  

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